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材料樣品處理
等離子清洗機(jī)
KT-S2DQX射頻電源光刻膠清洗等離子清洗機(jī)
產(chǎn)品簡介
                  射頻電源光刻膠清洗等離子清洗機(jī),不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體,從而達(dá)到清洗的效果。
| 品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 | 
等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達(dá)到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。

射頻電源光刻膠清洗等離子清洗機(jī)參數(shù)
供電電源  | AC220V(AC110V可選)  | 
工作電流  | 整機(jī)工作電流不大于3.5A(不含真空泵)  | 
射頻電源功率  | 150W  | 
射頻頻率  | 13.56MHz  | 
頻率偏移量  | <0.2MHz  | 
特性阻抗  | 50歐姆,手動匹配  | 
耦合方式  | 電容耦合  | 
真空度  | ≤50Pa  | 
腔體材質(zhì)  | 高純石英  | 
腔體容積  | 2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)  | 
觀察窗內(nèi)徑  | Φ50  | 
氣體流量  | 0—50ml/min(其他量程可選)  | 
過程控制  | 過程手動控制  | 
清洗時(shí)間  | 手動開關(guān)  | 
開蓋方式  | 鉸鏈側(cè)開式法蘭  | 
外形尺寸  | 450x450x360mm  | 
重量  | 23Kg  | 
真空室溫度  | 小于65°C  | 
冷卻方式  | 強(qiáng)制風(fēng)冷  | 
標(biāo)配  | KF16真空管1米,kf16卡箍2個(gè),不銹鋼網(wǎng)匣1個(gè),電源線一根,說明書一本。  |